Группа компаний «РнД-ИСАН / ЭУФ Лабс» занимается исследованиями и разработками в области оптики и спектроскопии. Основным направлением работы компании являются исследования и разработки в области экстремального ЭУФ излучения, физики плазмы и связанных областях физики. Группа компаний обладает опытом и знаниями в области теоретического описания процессов, проведения экспериментов, численного моделирования процессов, конструирования и производства.
«РнД-ИСАН / ЭУФ Лабс» выполняла заказные работы по исследованиям и разработкам для ведущих высокотехнологичных компаний. Работала в сотрудничестве с ASML, Philips, Qioptiq, агенством Sematech и другими компаниями. Участвовала в международном проекте “More Moore” в рамках 6-ой рамочной Программы ЕК.
Основные интересы компаний сосредоточены в области разработки плазменных источников излучения для ЭУФ литографии: источники излучения для литографических машин и диагностики (актиническая инспекция), инструментов для диагностики излучения и потоков частиц от плазменных источников
Группа компаний имеет широкий спектр контактов с ведущими научно-исследовательскими организациями мира.
В «РнД-ИСАН / ЭУФ Лабс» работают выпускники ведущих ВУЗов Российской Федерации, специалисты, получившие научные степени как в Российских, так и зарубежных научных центрах. Многие специалисты компаний имеют опыт работы в зарубежных организациях и проектах.
Коллектив компаний имеет большое число значимых публикаций и патентов. Участие более чем в 100 патентах, поданных от ASML.
Область исследований и разработок:
- численное моделирование процессов взаимодействия лазерного излучения с веществом, плазмой, взаимодействия рабочей среды ЭУФ устройств с элементами оптики. Основные направления – радиационная гидродинамика плотной горячей плазмы, возникающая под действием ЭУФ и рентгеновского излучения плазма, взаимодействие плазмы с поверхностью; Например, моделирование плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для ЭУФ литографии, моделирование возникающей под действием ЭУФ и рентгеновского излучения плазмы для расчета срока работы ЭУФ литографических систем, исследование химических процессов в плазме у поверхности твёрдых тел, квантово-химические расчеты.
- разработка источников излучения для диапазона длин волн от инфракрасного до рентгеновского излучения, включая теоретические разработки, экспериментальную проверку и оптимизацию источников излучения, численное моделирование и оптимизация для увеличения эффективности и уменьшения стоимости источников излучения;
Например, разработка источников ЭУФ излучения различных типов, широкополосных плазменных источников с лазерной накачкой для видимого и ультрафиолетового диапазонов и т.д. - разработка оптических элементов для диапазона длин волн от инфракрасного до рентгеновского излучения, методов их исследования, диагностики и обслуживания;
Например, разработка фокусирующих кристаллических спектрометров, методов диагностики и контроля многослойной отражающей оптики, технологий очистки вакуумной оптики; - исследования и диагностика материалов в диапазоне длин волн от инфракрасного до рентгеновского излучения;
Например, диагностика многослойных структур (многослойных зеркал для ЭУФ литографии). - исследования и разработки в области плазмы (лазерная плазма, плазма капиллярного разряда, z-пинчи, газоразрядная плазма и т.д.);
Например, диагностика высокотемпературной и низкотемпературной плазмы посредством спектральных методов. - спектроскопические методы исследования низкоразмерных структур;
Например, микроскопия и спектроскопия одиночных молекул. - разработки сопутствующего уникального технологического оборудования;
Например, разработка технологии насосов для работы с агрессивными высокотемпературными средами, жидкими металлами и т.д.
Разработки и конструирование:
- конструирование оптических устройств в области спектроскопии и микроскопии для диапазонов длин волн от инфракрасного до рентгеновского излучения, включая источники излучения, интеграцию детекторов и других элементов оптических устройств, разработку и конструирование аналитических приборов; Например, конструирование плазменных источников излучения, микроканальных детекторов (МКП) и т.д. Конструирование спектрометров: оптико-эмиссионных, ионов, ИК фурье-спектрометров, оптических спектрометров на диодных лазерах, рентгено-флуоресцентных, адсорбционных, рамановского рассеяния, флуоресцентных; устройств для оптической широкопольной микроскопии, конфокальной микроскопии, зондовой микроскопии (атомно-силовая микроскопия) и совмещённых систем. Разработка и конструирование неразрывных рычажных систем для наноперемещений.
- разработка управляющей электроники на базе микроконтроллеров и ПЛИС (программируемых логических интегральных схем), силовой электроники; Например, разработка управляющей электроники для оптико-эмиссионного спектрометра, атомно-силового микроскопа, устройства для лазерной пробоподготовки, силовой электроники для устройств лазерной пробоподготовки, контроллеров микроскопов и спектрометров, высоковольтной импульсной техники.
- разработка программного обеспечения (как встроенного, так и для обработки результатов экспериментов); Например, разработка программ для анализа результатов экспериментов по микроскопии и спектроскопии одиночных молекул; разработка программ для работы с данными экспериментов в области физики плазмы, разработка встроенного программного обеспечения для контроллера атомно-силового микроскопа.
- разработка комплексных систем сбора информации, автоматизации физических измерений; Например, разработка системы датчиков и сбора информации со сложных экспериментальных установок, систем контроля перемещений в нанодиапазоне и т.д.
Конструирование и производство :
- создание прототипов устройств, производство опытных образцов и мелких серий изделий, организация серийного производства изделий;
- разработка технической и технологической документации;
- взаимодействие с заказчиками по внедрению разработанных устройств и технологий в их системы и технологические цепочки, авторский надзор при постановке на производство или включении в технологические цепочки, установки.