Компания РнД-М. Моделирование процессов
В компании РнД-М накоплен значительный опыт исследований и разработок в области физики плазмы, плазменных источников излучения, плазмохимии. Основным направлением работы компании является численное моделирование различными методами процессов в плазме. В основную рабочую теоретическую группу входит более десяти ученых, которые занимаются перечисленными ниже исследовательскими направлениями.
Радиационная гидродинамика плотной горячей плазмы
Направление исследований в области радиационной гидродинамики горячей плазмы включает моделирование излучающих свойств плотной горячей плазмы. Этот тип плазмы используют в современных источниках излучения. Такие источники излучения применяют, например, для микроскопии в мягком рентгене и современной литографии. В основном исследования сфокусированы на моделировании плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения. В таких источниках излучения используют плазму олова. Область применения – современная литография (ЭУФ литография). В литографии следующего поколения (Next-Generation Lithography – NGL) сейчас используют именно такие источники излучения. Их устанавливают в литографические машины (степперы) и в системы для инспекции на актинической длине волны (длина волны излучения на которой осуществляли экспозицию при производстве чипов).
Возникающая под действием ЭУФ и рентгеновского излучения плазма
Данная тематика связана с исследованием физических процессов, протекающих при облучении газов под низким давлением ЭУФ и мягким рентгеновским излучением. Исследования в основном сосредоточены на моделировании переходных процессов в плазме, индуцированной ЭУФ излучением, по модели самосогласованного поля. Результаты такого моделирования описывают поток ионов и нейтральных атомов из плазмы к облучаемой поверхности. Расчёт потоков может быть использован для оценки разрушения поверхности (например, эрозия поверхности) в виде функции от начальных рабочих условий. Это направление напрямую связано с моделированием срока работы проецирующей оптики для ЭУФ литографии.
Взаимодействие плазмы с поверхностью
Исследование химических процессов в плазме у поверхности твёрдых тел. Разработки направлены на анализ доступных экспериментальных данных по очистке оптических поверхностей от олова и углерода с помощью плазмы индуцированной ЭУФ излучением. Изучаемые феноменологические модели позволяют с адекватной точностью оценить влияние индуцированной ЭУФ излучением плазмы на проецирующую оптику. Эти исследования имеют прямые приложения для ЭУФ литографии.