Компания РнД-ИСАН оказывает услуги по разработке плазменных источников излучения.
В таких источниках излучение создается плазмой, получаемой различными способами . Наша компания специализируется на разработке плазменных источников излучения, в которых плазму инициирует и/или поддерживает лазерное излучение (LPP) или электрические разряды (DPP). Имеется опыт по разработке устройств на основе других физических эффектов (например, на основе пинч-эффекта или Z-pinch).
Плазменные источники излучения с лазерной накачкой относятся к одному из самых перспективных направлений развития специализированных источников излучения. Такие источники излучают в диапазоне от мягкого рентгена до инфракрасной области спектра. Для разных диапазонов излучения используется плазма на основе разных элементов.
Исследования и разработки источников излучения на плазме, поддерживаемых электрическим разрядом, в настоящее время активно ведутся в области экстремального ультрафиолетового и мягкого рентгеновского излучения.
Среди текущих направлений наших исследований и разработок можно выделить два основных. Это создание источников излучения для диапазона от ультрафиолета до инфракрасного излучения на основе плазмы благородных газов и источники излучения для экстремального ультрафиолета (ЭУФ) на основе плазмы металлов.
Все исследования и разработки в данной области могут сопровождаться конструкторскими разработками и математическим моделированием процессов.
Плазменные источники с лазерной накачкой в диапазоне от ультрафиолета до инфракрасного излучения
В нашей компании разработана технология плазменных источников излучения с лазерной накачкой XWS. В основу работы этой технологии заложено явление оптического разряда в плазме под действием лазерного излучения. Для получения излучения, используется плазма благородных газов (например, ксенон). По сравнению с традиционными дуговыми, дейтериевыми, ртутными лампами и светодиодами, источники излучения XWS имеют высокую спектральную яркость, широкий спектральный диапазон, высокую пространственную и временную стабильность, длительный срок работы.
Кроме модификации продуктов по технологии XWS (ссылка) мы предлагаем разработку решений под нужды заказчика.
Подобные разработки могут включать увеличение или уменьшение мощности источников излучения, специализированное исполнение для интеграции с устройствами и технологическими процессами заказчика, изменение спектральных характеристик источников излучения.
Плазменные источники для получения мягкого рентгена и экстремального ультрафиолетового излучения
Исследования и разработки в области экстремального ультрафиолетового излучения и технологических процессов на его основе (литография, метрология и т.д.) невозможны без источников излучения для этой области электромагнитного спектра.
Мы предлагаем проведение исследований и разработок по созданию и совершенствованию плазменных источников излучения с накачкой лазером или электрическим разрядом. Это источники излучения, в которых плазма может быть получена при взаимодействии лазерного излучения или электрического разряда с каплями или струями металла, поверхностью металлов и т.д.
Накопленный в нашей компании экспериментальный и теоретический опыт позволяет проводить разработки процесса работы таких источников излучения, формирование основных конструкторских решений, трансфер технологий для реализации в коммерческих установках.
Основным направлением работы в настоящее время является создание источников излучения на основе технологии лазерной накачки плазмы.